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真空镀膜的膜层厚度如何测量?硬质涂层的发展、现状及未来

 在使用真空镀膜机镀膜之后,为了需要可能会要测量膜层的厚度,测量膜层的厚度用什么方法呢?
 最直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM),这种仪器可以直接驱动蒸发源,通过PID控制循环驱动挡板,保持蒸发速率。
 只要将仪器与系统控制软件相连接,它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的精确度是有限的,部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。
 此外虽然QCM在较低温度下非常稳定,但温度较高时,它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中,很难阻止传感器跌入这个敏感区域,从而对膜层造成重大误差。
 光学监控是高精密镀膜的的首选监控方式,这是因为它可以更精确地控制膜层厚度(如果运用得当)。
 精确度的改进源于很多因素,但最根本的原因是对光学厚度的监控。
真空镀膜设备硬质涂层的发展、现状及未来
  真空镀膜设备硬质涂层的发展、现状及未来,真空镀膜设备硬质涂层的市场随着加工技术的更高要求而不断扩大,在国内也具有越来越大的市场。硬质涂层在工具上的应用按照市场占有量的划分主要为:刀具涂层70%,模具涂层25%,零部件涂层5%。真空镀膜机硬质涂层技术主要有阴极电弧离子镀技术和磁控溅射技术。真空镀膜设备电弧技术和磁控溅射技术的区别主要为:电弧技术可以获得接近90%的离化率和较快的沉积速率,但存在液滴的问题;真空镀膜机磁控溅射技术可以获得平整的表面,但离化率和沉积速率都相对较低。
  目前,两种技术都在不断向前发展。真空镀膜色环保磁控溅射技术也在不断进展,闭合磁场非平衡磁控溅射技术能够大幅度提高离化率,成为磁控溅射膜层质量提升的关键。随着中频孪生磁控技术和非平衡磁控溅射技术的结合,真空镀膜设备磁控溅射技术已经能够获得与电弧技术相当的优质膜层。